韓國專利制度簡介

1. 分類
   1. 發(fā)明專利
   2. 實用新型專利
   3. 外觀設(shè)計
2. 發(fā)明專利所須文件
   1. 說明書、附圖、申請專利範圍、摘要
   2. 委任書
   3. 優(yōu)先權(quán)文件（可自優(yōu)先權(quán)日起16個月內(nèi)補交）
3. 申請PCT登錄韓國所須文件
   1. 韓文說明書、附圖、申請專利範圍、摘
   2. 委任書
   3. PCT公告本
   4. PCT在國際申請案中已修正，其修正之證明及修正本（PCT/IPEA/409 form）
4. 審查程序
   1. 公開制—自申請日（或優(yōu)先權(quán)日）起16個月公開 —公開後任何人可向KIPO提出有關(guān)其專利性之信息及其支持證物
   2. 實體審查—申請人或利害關(guān)係人可自申請日起5年內(nèi)提出請求
   3. 授權(quán)登記—核準後自接到通知書起三個月內(nèi)付登記費（證書費）及1-3年年費（6個月內(nèi)可倍額補交）
   4. 授權(quán)後異議制
   5. 上訴—申請人收到最終駁回通知日起30日內(nèi)可向KIPO內(nèi)之IPT（智慧財產(chǎn)審判庭）提出上訴
   6. 專利法院—不服IPT上訴決定可向?qū)＠ㄔ荷显V 不服專利法院判決更可向最高法院提起上訴
   7. 加速審查制度—有
   8. 異議制度及無效審判制度—有
   9. 保護期限—登記日起至”申請日起20年”
5. 實用新型制度
   1. 自2006/10/1起原形式審查制改為實質(zhì)審查制
   2. 實用新型之創(chuàng)造性要件比發(fā)明專利為低
   3. 實用新型必須提交附圖
   4. 請求審查期限—自申請日起3年內(nèi)必須提出請求
   5. 保護期限—登記日起至”申請日起10年”為止
   6. 登記費繳付期限—申請時付第1年年費，第2、3年年費必須在登記日起1年內(nèi)繳付
6. 外觀設(shè)計制度
   1. 韓國原採實質(zhì)審查制度（SES），現(xiàn)有一部分（1998/3起對生命周期較短之物品適用）改採非實質(zhì)審查制度（NSES） —後者可在申請日起2~3個月內(nèi)獲準登記
   2. 外觀設(shè)計（SES） A) 採自動審查制，期限約1年可完成審查 B) SES申請案可應(yīng)申請人要求提前公開，公開後之外觀設(shè)計，如申請人對侵權(quán)行為人發(fā)出警告信，在該外觀設(shè)計授權(quán)後將可請求侵權(quán)人自警告日起之賠償金 —其程序略如韓國之發(fā)明及實用新型制度。但外觀設(shè)計明細書必須提出外觀設(shè)計之要點之說明 C) SES申請案授權(quán)後將予以公告，但無異議制度
   3. 非實質(zhì)審查制（NSES） A) 允許同時申請同類二十個以下之外觀設(shè)計 B) KIPO僅作形式審查 C) 外觀設(shè)計授予登記後，申請人必須繳納登記費，KIPO則公告該外觀設(shè)計，而任何人可在公告日起3個月內(nèi)提出異議。