按專利制度採屬地主義，申請人如有研發(fā)產(chǎn)品要取得臺灣與大陸的專利保護(hù)，必須在臺灣與大陸分別申請專利。基本上，在臺灣與大陸申請專利皆需符合三大要件，在臺灣為新穎性、進(jìn)步性及產(chǎn)業(yè)利用性，在大陸為新穎性、創(chuàng)造性及實(shí)用性。但臺灣申請專利需備具的說明書、申請專利範(fàn)圍、摘要、必要圖式，與在大陸申請專利應(yīng)提交的說明書（和附圖）、權(quán)利要求書、摘要（和附圖），二者規(guī)定之文字、用語及格式，並不相同，說明如下。
- 中文文字及用語
臺灣與大陸專利的官方語言雖皆為中文，但兩岸的中文用語不盡相同，除了繁體字（臺灣現(xiàn)改稱「正體字」）和簡體字之文字不同，一般用語或?qū)Ｓ忻~（技術(shù)名稱）也有差異，參見下列二表。
表一：臺灣與大陸的專利相關(guān)用語對照表
| 英文 | 臺灣用語 | 大陸用語 | 英文 | 臺灣用語 | 大陸用語 |
|---|---|---|---|---|---|
| Claim | 申請專利範(fàn)圍 | 權(quán)利要求書 （權(quán)利要求書） | Re-examination | 再審查 | 覆審 （覆審） |
| Substantive Examination | 實(shí)體審查 | 實(shí)質(zhì)審查 （實(shí)質(zhì)審查） | Invalidation | 舉發(fā)撤銷 | 無效宣告 （無效宣告） |
| Inventive Step | 進(jìn)步性 | 創(chuàng)造性 （創(chuàng)造性） | Oral Examination | 言詞辯論 | 口頭審理 （口頭審理） |
| Cited Reference | 引證案 | 對比文件 （對比文件） | Divisional Application | 分割 | 分案 （分案） |
| Said | 上述；該 | 所述 （所述） | Grant | 核準(zhǔn)專利 | 授權(quán) （授權(quán)） |
| Assignment | 讓與；移轉(zhuǎn) | 轉(zhuǎn)讓 （轉(zhuǎn)讓） | License | 授權(quán) | 許可 （許可） |
表二：臺灣與大陸的技術(shù)用語對照表
| 英文 | 臺灣用語 | 大陸用語 | 英文 | 臺灣用語 | 大陸用語 |
|---|---|---|---|---|---|
| Computer | 電腦 | 計(jì)算機(jī) （計(jì)算器） | Laser | 雷射 | 激光 （激光） |
| Digital | 數(shù)位 | 數(shù)碼 （數(shù)碼） | Mask | 遮罩；光罩 | 掩膜 （掩膜） |
| Diode | 二極體 | 二極管 （二極管） | Plasma | 電漿 | 等離子 （等離子） |
| Disk | 磁碟 | 磁盤 （磁盤） | Printer | 印表機(jī) | 打印機(jī) （打印機(jī)） |
| Hardware / Software | 硬體/軟體 | 硬件/軟件 （硬件/軟件） | Photoresist | 光阻 | 光致抗蝕劑 （光致抗蝕劑） |
| Information | 資訊 | 訊息 （訊息） | Read Only Memory | 唯讀記憶體 | 只讀存儲器 （只讀存儲器） |
| Internet | 網(wǎng)際網(wǎng)路；網(wǎng)路 | 互聯(lián)網(wǎng)；網(wǎng)絡(luò) （互聯(lián)網(wǎng)；網(wǎng)絡(luò)） | Row | 列 | 行 （行） |
| Integrated Circuit | 積體電路 | 集成電路 （集成電路） | Valve | 閥 | 氣門 （氣門） |
- 繁簡中文字體的轉(zhuǎn)換
雖然臺灣與大陸於專利申請的中文本可利用Microsoft Word提供的功能作字體的轉(zhuǎn)換，再去調(diào)整格式以省去重新翻譯和打字。但繁體中文與簡轉(zhuǎn)中文之間的自動轉(zhuǎn)換，並不保證完全沒有錯(cuò)誤，例如下列用語或用字在轉(zhuǎn)換時(shí)會出現(xiàn)不一致情形：
（電腦對於常用詞彙的判斷）
繁體字 → 簡體字 → 繁體字
質(zhì)量 質(zhì)量 品質(zhì)
程序 程序 程式
（單一簡體字對應(yīng)多個(gè)繁體字）
簡體字 繁體字
發(fā)（毛發(fā)、發(fā)生） 髮（毛髮）、發(fā)（發(fā)生）
制（制度、制造） 制（制度）、製（製造）
因此在繁簡中文轉(zhuǎn)換後仍必須用人工方式校正和校稿。
- 專利中文本格式
臺灣申請專利的中文本（指說明書、申請專利範(fàn)圍、摘要）為參照世界五大專利局所制訂之共同申請格式（Common Application Format，簡稱CAF），惟與大陸申請案的中文本仍有下列差異。
| 項(xiàng)目 | 臺灣專利中文本 | 大陸專利中文本 |
|---|---|---|
| 說明書 | 臺灣規(guī)定應(yīng)載明的事項(xiàng)包括發(fā)明名稱、技術(shù)領(lǐng)域、先前技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容、圖式簡單說明、實(shí)施方式及符號說明（有圖式者，應(yīng)列出所記載之主要元件符號及說明）；說明書應(yīng)與申請專利範(fàn)圍及摘要的技術(shù)用語及符號應(yīng)一致；明定各項(xiàng)應(yīng)依序撰寫和附加標(biāo)題，而內(nèi)文之各段落也應(yīng)編號依序排列。 | 大陸規(guī)定的說明書內(nèi)容包括（發(fā)明）名稱、技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容、附圖說明（如有附圖，需作簡略說明）及具體實(shí)施方式，需於每一部分前面寫明各標(biāo)題，而說明書文字部分中和附圖中所寫的附圖標(biāo)記（臺灣稱為符號說明）應(yīng)當(dāng)一致。 |
| 段落編號及符號說明 | 如上所述，臺灣對此二部分有特別明定。 | 大陸對此二部分未特別明定。 |
| 申請專利範(fàn)圍 | 臺灣規(guī)定的標(biāo)題為「申請專利範(fàn)圍」，其包含獨(dú)立項(xiàng)及附屬項(xiàng)，內(nèi)文可用「如申請專利範(fàn)圍第1項(xiàng)」或「如請求項(xiàng)1」。對於請求項(xiàng)之專利標(biāo)的名稱，臺灣規(guī)定應(yīng)明確記載，基本上獨(dú)立項(xiàng)不能使用過於籠統(tǒng)簡略的用語，例如「一種裝置」或「一種方法」。 | 大陸規(guī)定的標(biāo)題為「權(quán)利要求書」，其包含獨(dú)立權(quán)利要求及從屬權(quán)利要求，內(nèi)文用「根據(jù)權(quán)利要求1」或「如權(quán)利要求1」。對於權(quán)利要求的主題名稱能否使用「一種裝置」或「一種方法」未特別限定。 |
| 摘要 | 限定250字內(nèi)，如有化學(xué)式，應(yīng)揭示最具技術(shù)特徵的化學(xué)式；如專利申請有圖式，應(yīng)指定代表圖及其主要符號和說明。 | 限定300字內(nèi)，可包含最能說明發(fā)明特徵的化學(xué)式；如專利申請有附圖，應(yīng)提供最能說明技術(shù)特徵的附圖。 |
- 專利申請的法定文本
由於在大陸申請專利必需用中文本提出，所以申請人如欲向臺灣申請專利，常會沿用大陸專利申請案提交的中文本向臺灣申請專利。然而如上所述，大陸申請專利的中文本（說明書及權(quán)利要求書等）無法直接用於臺灣申請專利。對此臺灣智慧財(cái)產(chǎn)局也特別提醒申請人於申請臺灣專利時(shí)不可使用「權(quán)利要求」之大陸用語。因此申請人應(yīng)將大陸申請案的中文本修改成適用於臺灣申請案之中文本後再申請臺灣專利，以免日後收到審查意見而產(chǎn)生修改費(fèi)用。
在臺灣申請專利可先以外文本或簡體中文本提出，並於申請專利之後的四個(gè)月內(nèi)再補(bǔ)送規(guī)定的中文本。該外文本為法定文本，如將來有中文本因誤譯而申請訂正，臺灣智慧財(cái)產(chǎn)局係以該外文本為比對之對象。原則上簡體中文本也比照外文本的相關(guān)規(guī)定。因此申請人來臺灣申請專利時(shí)，如有主張大陸（或美日等國）之基礎(chǔ)案優(yōu)先權(quán)，臺灣案仍宜提出該基礎(chǔ)案的簡體中文本（或外文本），並同時(shí)或隨後補(bǔ)送臺灣案規(guī)定的中文本。如此而來，日後如有誤譯情形則仍可訂正。但若申請人來臺灣申專利時(shí)，僅以大陸案簡體中文本轉(zhuǎn)換成臺灣案繁體（正體）中文本提出，而未提出基礎(chǔ)案的簡體中文本（或外文本），則日後說明書或申請專利範(fàn)圍等有誤譯或不正確之情形，可能被認(rèn)為超出原申請範(fàn)圍而無法修正或更正。
