中國(guó)專利法於去年通過(guò)第四次修改，並自日本於去年五月份通過(guò)《意匠法》改正案，部分條文將修改並於2020年4月1日起生效。按日本的意匠制度，相當(dāng)於臺(tái)灣專利制度之設(shè)計(jì)專利，惟不同於臺(tái)灣《專利法》包含發(fā)明、新型和設(shè)計(jì)，日本的發(fā)明、新型及設(shè)計(jì)申請(qǐng)係分別依據(jù)《特許法》、《實(shí)用新案法》及《意匠法》之規(guī)定。對(duì)於此次日本外觀設(shè)計(jì)的修法內(nèi)容，簡(jiǎn)述要點(diǎn)如下。
擴(kuò)大保護(hù)對(duì)象
提供建築物的外觀或內(nèi)部設(shè)計(jì)可以受到保護(hù)，也放寬對(duì)於圖像（GUI，圖形使用者介面）的保護(hù)，不限於必須為產(chǎn)品上所顯示或記錄的圖像，例如網(wǎng)路雲(yún)端之虛擬圖像或投影之圖像等等。
衍生設(shè)計(jì)（関連意匠）的加強(qiáng)機(jī)制
申請(qǐng)人提出衍生設(shè)計(jì)的申請(qǐng)期限，修法前規(guī)定必須在原設(shè)計(jì)的核準(zhǔn)註冊(cè)公告日之前（從申請(qǐng)到核準(zhǔn)公告通常約僅8個(gè)月期間）提出，修法後可以在原設(shè)計(jì)申請(qǐng)日起10年內(nèi)提出。
對(duì)於在同一設(shè)計(jì)概念下的近似設(shè)計(jì)，申請(qǐng)人除了可以申請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)及其衍生設(shè)計(jì)，也可以申請(qǐng)與該衍生設(shè)計(jì)近似之（另件）衍生設(shè)計(jì)。
外觀設(shè)計(jì)的保護(hù)期間
經(jīng)核準(zhǔn)註冊(cè)的外觀設(shè)計(jì)，其權(quán)利保護(hù)期間從註冊(cè)日起20年改為申請(qǐng)日起25年，適用於2020年4月1日或之後提出的新申請(qǐng)案。對(duì)於2020年4月1日之前申請(qǐng)的設(shè)計(jì)案，其權(quán)利保護(hù)期間仍為註冊(cè)日起20年。
間接侵權(quán)行為
對(duì)於受到設(shè)計(jì)權(quán)利保護(hù)的產(chǎn)品，如第三人為了規(guī)避侵權(quán)責(zé)任，將該產(chǎn)品分割成若干構(gòu)件來(lái)進(jìn)行單獨(dú)製造或進(jìn)口，其行為仍將構(gòu)成間接侵權(quán)而被取締。
此外，日本也將簡(jiǎn)化外觀設(shè)計(jì)之申請(qǐng)程序，允許申請(qǐng)人提出一份申請(qǐng)書包含多個(gè)設(shè)計(jì)申請(qǐng)案，並廢除設(shè)計(jì)物品的國(guó)內(nèi)分類制度，而參照國(guó)際分類，使得物品名稱更具有彈性。
