中國專利法於去年通過第四次修改，並自日本於去年五月份通過《意匠法》改正案，部分條文將修改並於2020年4月1日起生效。按日本的意匠制度，相當(dāng)於臺灣專利制度之設(shè)計(jì)專利，惟不同於臺灣《專利法》包含發(fā)明、新型和設(shè)計(jì)，日本的發(fā)明、新型及設(shè)計(jì)申請係分別依據(jù)《特許法》、《實(shí)用新案法》及《意匠法》之規(guī)定。對於此次日本外觀設(shè)計(jì)的修法內(nèi)容，簡述要點(diǎn)如下。
擴(kuò)大保護(hù)對象
提供建築物的外觀或內(nèi)部設(shè)計(jì)可以受到保護(hù)，也放寬對於圖像（GUI，圖形使用者介面）的保護(hù)，不限於必須為產(chǎn)品上所顯示或記錄的圖像，例如網(wǎng)路雲(yún)端之虛擬圖像或投影之圖像等等。
衍生設(shè)計(jì)（関連意匠）的加強(qiáng)機(jī)制
申請人提出衍生設(shè)計(jì)的申請期限，修法前規(guī)定必須在原設(shè)計(jì)的核準(zhǔn)註冊公告日之前（從申請到核準(zhǔn)公告通常約僅8個(gè)月期間）提出，修法後可以在原設(shè)計(jì)申請日起10年內(nèi)提出。
對於在同一設(shè)計(jì)概念下的近似設(shè)計(jì)，申請人除了可以申請?jiān)O(shè)計(jì)及其衍生設(shè)計(jì)，也可以申請與該衍生設(shè)計(jì)近似之（另件）衍生設(shè)計(jì)。
外觀設(shè)計(jì)的保護(hù)期間
經(jīng)核準(zhǔn)註冊的外觀設(shè)計(jì)，其權(quán)利保護(hù)期間從註冊日起20年改為申請日起25年，適用於2020年4月1日或之後提出的新申請案。對於2020年4月1日之前申請的設(shè)計(jì)案，其權(quán)利保護(hù)期間仍為註冊日起20年。
間接侵權(quán)行為
對於受到設(shè)計(jì)權(quán)利保護(hù)的產(chǎn)品，如第三人為了規(guī)避侵權(quán)責(zé)任，將該產(chǎn)品分割成若干構(gòu)件來進(jìn)行單獨(dú)製造或進(jìn)口，其行為仍將構(gòu)成間接侵權(quán)而被取締。
此外，日本也將簡化外觀設(shè)計(jì)之申請程序，允許申請人提出一份申請書包含多個(gè)設(shè)計(jì)申請案，並廢除設(shè)計(jì)物品的國內(nèi)分類制度，而參照國際分類，使得物品名稱更具有彈性。
